Titāna apaļais mērķis
Prece: titāna apaļais mērķis, titāna mērķis
Standarts: ASTM B348 GR2
Materiāls: GR2 titāns .
Specifikācijas: dia 100x45mm, dia 100x40mm, dia 80x40mm
Forma: apaļa, plāksne, caurule
Mēs varam piegādāt titāna apaļo mērķi kā Cumstomēra prasību
Lietojumprogramma: Izmanto pusvadītāju atdalīšanas ierīcē, plaknes displejā, uzglabāšanas elektrodu plēvei, izšļakstīšanai
pārklājums, sagataves virsmas pārklājums, stikla pārklājuma rūpniecība utt. .
Produkta ievads
The coating target is a sputtering source that is sputtered onto the substrate to form a functional thin film through magnetron sputtering or other coating systems under appropriate process conditions. In other words, the target material is a target material bombarded by high-speed charged particles. When used in high-energy laser weapons, different power densities, different output waveforms, and different laser wavelengths will mijiedarboties ar dažādiem mērķa materiāliem, lai radītu atšķirīgus nogalināšanas efektus . un destruktīvus efektus .
Titāna starplikšanas mērķu ražošana ietver izejvielu pulvera sagatavošanu, priekšsildīšanu, karstu presēšanu, apstrādi un virsmas apstrādi . Izejvielu sagatavošana ir atslēga, lai nodrošinātu, ka titāna kvalitāte ir sputnu mērķi . Precizēšana, kas ir vienveidīgi, un tie ir izstrādāti, un tie ir svarīgi, un tie ir svarīgi, un ir svarīgi, un ir svarīgi, un ir svarīgi, un tiek iegūti. Mērķa . apstrādes īpašības ietver griešanu, veidošanu un pulēšanu . Virsmas apstrāde ietver tīrīšanu, pasivāciju, iesaiņošanu utt. .
Papildu tehnoloģija un ilgāks kalpošanas laiks . Tā augstās veiktspējas dēļ titāna apaļajiem mērķiem ir liela nozīme pusvadītāju atdalīšanas ierīcēs, plakano paneļu displejos, glabāšanas elektrodu plēvēs, sagataves pārklājumā, stikla pārklājuma nozarē un citos laukos .
Titanium round target has a wide range of uses due to the wide band gap, low dielectric constant, and temperature stability. The thin film is mainly prepared by magnetron sputtering, in which the target material is an important basic raw material in the sputtering coating process. Equipped with excellent and supersonic plasma spraying technology, it has a high heat source temperature and an inert air Atmosfēra . Smidzināšanas attālums ir mazs . Daļiņas lido plazmas strūklā ar lielu ātrumu, mazāk ticams, ka tos oksidē barotnē, ar priekšrocībām, lai izsmidzinātu viegli oksidējamu titāna pulveri .}}
Detalizētas specifikācijas kā šādas:
|
Pakāpe |
Gr2 |
|
Forma |
Apaļa/plāksne/caurule |
|
Tīrība |
Titaniim: 99,8% |
|
Blīvums |
4.51 vai 4.50 |
|
Materiāls |
Gr2 |
|
Apaļš mērķis |
Dia: 20-300 mm Biezums: 10-80 mm |
|
Plāksnes mērķis |
Garums: 315.5-601.6 mm Platums: 31.5-304.8 mm Biezums: 3-30 mm |
|
Caurules mērķis |
Dia: 30-200 mm Biezums: 5-20 mm Garums: 500-2000 mm |
Populāri tagi: Titāna apaļais mērķis, Ķīna Titāna apaļo mērķa ražotāji, piegādātāji, rūpnīca
Jums varētu patikt arī
Nosūtīt pieprasījumu
